Биомедицинская инженерия и электроника
Электронный научный журнал
Вход в Личный портфель
О журнале Номера журнала Поиск Правила для авторов  
Главная / Номера журнала / № 3, 2017

Технические науки
THE IMPACT OF THE METHOD OF UNDERLAY SURFACE PROCESSING ON THE DEVELOPMENT OF DEFECTS IN EPITAXIAL COMPOSITIONS IN THE COURSE OF SILICON PHOTO-TRANSDUCERS PRODUCTION
Zoya Nikonova 1, Oksana Nyebesnyuk 1, Alina Nikonova 1, Stanislav Ivanchikov 1, Alexander Zahoda 1

1. Zaporozhye State Engineering Academy

Полнотекстовый файл

Пристатейный список:
Библиографическая ссылка

Zoya Nikonova, Oksana Nyebesnyuk, Alina Nikonova, Stanislav Ivanchikov, Alexander Zahoda THE IMPACT OF THE METHOD OF UNDERLAY SURFACE PROCESSING ON THE DEVELOPMENT OF DEFECTS IN EPITAXIAL COMPOSITIONS IN THE COURSE OF SILICON PHOTO-TRANSDUCERS PRODUCTION // Биомедицинская инженерия и электроника. – 2017. – № 3;
URL: www.es.rae.ru/biofbe/ru/212-1112 (дата обращения: 20.04.2024).

Код для вставки на сайт или в блог
Просмотры статьи

Сегодня: 484 | За неделю: 484 | Всего: 860

Комментарии (0)
Сайт работает на RAE Editorial System